중국의 주요 반도체 경영진들이 국가 차원의 자원 통합을 통해 2026년부터 2030년 사이에 운용 가능한 리소그래피(lithography) 시스템을 개발할 것을 촉구했다. 이들은 핵심 장비와 부품의 통합 역량을 확보해 미국과의 기술 경쟁 속에서 자국의 기술 자립도를 높여야 한다고 강조했다.
2026년 3월 5일, 로이터(Reuters)의 보도에 따르면, 나우라 테크놀로지 그룹(NAURA) 회장 자오 진롱(Zhao Jinrong)과 양쯔 메모리 테크놀로지스의 회장 겸 사장 천 난샹(Chen Nanxiang), 엠파이어리언 테크놀로지(Empyrean Technology) 회장 류 웨이핑(Liu Weiping) 등이 주요 반도체 연구기관들과 공동으로 발표한 글이 수요일 늦게 온라인에 게시됐다.
이들 경영진은 국가적 차원에서 자원을 모아 기관 간 기술적 성과를 통합해야 한다고 촉구했다. 글은 중국의 과학기술 전문가 협회가 발행하는 학술지 Science and Technology Review에 게재됐다.
“리소그래피 장비를 예로 들면, ASML의 극자외선(EUV) 장비는 100,000개의 부품을 5,000개의 공급자가 제공하며 ASML은 단지 통합자 역할을 하고 있다”
글은 ASML 홀딩(네덜란드)이 세계 유일의 EUV(Extreme Ultraviolet) 리소그래피 장비 공급업체로 자리매김했으며, 해당 장비는 스마트폰, 인공지능(AI), 고성능 컴퓨팅에 사용되는 최첨단 반도체를 생산하는 데 필수적이라고 설명했다. “어떻게 하면 중국의 ASML을 세울 수 있느냐”는 문제 제기도 포함됐다. 이들은 통합적 접근을 통해 자금과 인력을 균일하게 배분하는 실행 계획을 관련 부처가 즉시 마련해야 한다고 주장했다.
반도체와 국가전략
기사는 중국 내 여러 기관이 EUV 레이저 광원, 웨이퍼 스테이지, 광학 시스템 등 개별 분야에서 돌파구를 열었지만, 이러한 구성 요소들을 완전한 시스템으로 통합하는 과제는 여전히 남아 있다고 지적했다. 특히 이 문제는 중국의 15차 5개년 계획(2026~2030년) 기간 내 해결해야 할 중요한 과제로 언급되었다.
또한 전자설계자동화(EDA) 소프트웨어, 실리콘 웨이퍼와 전자용 가스 등 소재 분야가 병목(bottleneck)으로 식별되어 있으며, 이들 역시 국가 수준의 조정과 지원이 필요하다고 강조됐다.
중국은 최신 정부업무보고서에서 반도체를 항공, 생명공학 및 저고도(무인체계) 경제와 함께 신흥 산업의 핵심 축으로 지정했다. 리창(李強) 중국 총리는 업무보고에서 국내 주도로 추진된 반도체 연구개발(R&D) 성과를 강조했다.
다만 5개년 로드맵은 리소그래피 장비를 직접적으로 명시하지 않았고, 대신 “첨단 공정 제조 역량을 향상하고, 핵심 장비·소재·부품 개발을 가속화”하라고만 지적했다.
기사에는 또 한 가지 중요한 데이터가 제시됐다. 중국의 28나노미터(nm) 및 그 이상 공정에서의 칩 생산능력은 전 세계 생산능력의 33%를 차지하고 있으며, 해당 노드에서는 제조와 설계 모두 제약이 없다고 분석했다.
같은 글에서 경영진들은 또한 최신 소자 구조, 공정 장비, 부품, 소재 및 EDA 소프트웨어를 연구·개발·검증할 수 있는 가장 선진 공정 역량을 갖춘 공개 플랫폼을 구축할 것을 제안했다.
용어 설명
리소그래피(lithography)는 반도체 웨이퍼 위에 패턴을 새기는 공정으로, 반도체 제조에서 핵심적인 역할을 한다. 특히 EUV(극자외선) 리소그래피는 파장이 매우 짧은 빛을 사용해 7nm 이하 등 초미세 공정을 가능하게 하며, 이는 고성능 칩 제조에 필수적이다. EDA(전자설계자동화)는 반도체 설계 과정을 자동화하는 소프트웨어로, 설계 복잡도가 높아질수록 EDA의 중요성은 커진다. 이러한 장비·소재·소프트웨어는 모두 고도의 전문성과 공급망을 필요로 한다.
추가 설명: ASML의 EUV 장비는 수만에서 수십만 개의 부품을 필요로 하고, 각 부품은 높은 정밀도와 품질을 요구한다. 따라서 단순히 부품 개발만으로는 충분하지 않으며, 공급망 관리·시스템 통합·대량생산 전 검증 등 전 과정을 아우르는 역량이 필요하다.
정책적·시장적 함의 및 전망
이번 제안은 중국이 반도체 장비 분야에서 단기간 내 독립을 달성하려는 강한 의지를 반영한다. 국가 차원의 자원 통합과 공개 플랫폼 구축은 기술 개발 속도를 높이고, 중복 투자와 연구 자원의 비효율을 줄이는 데 기여할 수 있다. 다만 통합 시스템을 단기간에 완성하려면 막대한 재원 투입, 인력 양성, 공급망 보완 및 글로벌 공급자와의 기술 격차 해소가 병행되어야 한다.
금융·산업 측면에서의 영향도 다각도로 전망된다. 국내 장비 산업이 자립화될 경우 관련 장비·소재 기업의 수요가 증가하여 중장기적으로 설비투자와 고용 확대가 예상된다. 반면, 대외 의존도가 줄어드는 과정에서 기술 이전, 국제 협력 여건, 수출통제 리스크 등은 투자자들에게 새로운 불확실성을 제공할 수 있다.
가격 측면에서는 단기적으로 글로벌 EUV 장비의 희소성으로 인한 프리미엄이 유지될 가능성이 높다. 중장기적으로 중국 내 통합형 장비 개발이 성과를 낸다면 해당 장비와 부품의 국내 가격 안정화와 공급 안정성이 개선될 수 있으나, 이를 위해서는 최소 수년의 시험·양산·검증 단계가 필요하다.
결론적으로 이번 공동 제안은 기술 자립을 향한 명확한 로드맵 요구이자, 국가적 통합과 집중 투자의 필요성을 공식적으로 제기한 것으로 평가된다. 향후 관련 부처의 구체적인 실행계획과 예산 배분, 그리고 산업계의 협력 수준이 실질적 성과를 좌우할 것이다.
